有没有什么设备扫描过某种物体之后隔着木板也能感应出来？

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有没有什么设备扫描过某种物体之后隔着木板也能感应出来？

这要看你要感应什么物体了。
金属物体可以用金属感应器，热源物体可以用红外线热感应。
如果是什么物体都想看那就是X光了，但是X光扫描出来的东西可能有点难分辨，要细看+脑补才行。

扫描电镜与透射电镜相比有哪些特点

　　扫描电镜是用极细的电子束在样品表面扫描,将产生的二次电子用特制的探测器收集,形成电信号运送到显像管,在荧光屏上显示物体.（细胞、组织）表面的立体构像,可摄制成照片.
　　扫描电镜样品用戊二醛和饿酸等固定,经脱水和临界点干燥后,再于样品表面喷镀薄层金膜,以增加二波电子数.扫描电镜能观察较大的组织表面结构,由于它的景深长,1mm左右的凹凸不平面能清所成像,故放样品图像富有立体感.
　　透射电子显微镜结构包括两大部分：主体部分为照明系统、成像系统和观察照相室；辅助部分为真空系统和电气系统.

彩色电视机扫描电路的作用是什么？

扫描系统分为行扫描和场扫描。行扫描电路由行振荡、行激励、行输出级电路组成，其作用为：
① 给行偏转线圈提供线性良好，幅度足够，受行同步脉冲同步的行频锯齿波电流，产生均匀变化的磁场，控制电子束沿水平方向作均匀扫描。
②
利用行逆程期间产生的逆程脉冲，通过行回扫变压器变压及相应的整流、滤波电路，产生各种电路需要的直流电压（一般为视放电压、聚焦电压、帘栅电压、阳极高压）和交流的灯丝电压。
③ 产生行消隐脉冲，使电子束在行逆程期间截止，以消除逆程回扫线。
④ 为**电路、枕形校正电路、行AFC等电路提供所需的行辅助信号。


4、场扫描电路由场振荡、场激励、场输出电路组成，其作用为：
① 给场偏转线圈提供线性良好，幅度足够的，能受场同步脉冲同步的电流，产生均匀变化的磁场，控制电子束沿垂直方向作均匀扫描。
② 提供消隐信号以消除逆程产生的回扫线。
③ 在场扫描正程期间为水平枕校电路提供场抛物波电压。

二次电子像中的成分信息的来源是什么？二次电子像如何反映样品的表面形貌特征？

你好？我是包生祥。这个问题我知道，打我电话我告诉你。

ct扫描机不检查的时候有辐射吗

CT机只有进行扫描时，球管通高压电，才会有射线。

扫描电镜的工作原理是什么

扫描电镜从原理上讲就是利用聚焦得非常细的高能电子束在试样上扫描，激发出各种物理信息。通过对这些信息的接受、放大和显示成像，获得测试试样表面形貌的观察。 当一束极细的高能入射电子轰击扫描样品表面时，被激发的区域将产生二次电子、俄歇电子、特征x射线和连续谱X射线、背散射电子、透射电子，以及在可见、紫外、红外光区域产生的电磁辐射。同时可产生电子-空*对、晶格振动（声子)、电子振荡（等离子体）。 扩展资料： 研发历程： 1873 Abbe 和Helmholfz 分别提出解像力与照射光的波长成反比。奠定了显微镜的理论基础。 1931德国物理学家Knoll 及Ruska 首先发展出穿透式电子显微镜原型机。 1938 第一部扫描电子显微镜由Von Ardenne 发展成功。 1959年第一台100KV电子显微镜 1975年第一台扫描电子显微镜DX3 在中国科学院科学仪器厂（现北京中科科仪技术发展有限责任公司）研发成功。 参考资料来源：百度百科-扫描电子显微镜

扫描电镜与透射电镜的区别？

1、结构差异: 主要体现在样品在电子束光路中的位置不同。透射电镜的样品在电子束中间，电子源在样品上方发射电子，经过聚光镜，然后穿透样品后，有后续的电磁透镜继续放大电子光束，最后投影在荧光屏幕上;扫描电镜的样品在电子束末端，电子源在样品上方发射的电子束，经过几级电磁透镜缩小，到达样品。当然后续的信号探侧处理系统的结构也会不同，但从基本物理原理上讲没什么实质性差别。 2、基本工作原理: 透射电镜：电子束在穿过样品时，会和样品中的**发生散射，样品上某一点同时穿过的电子方向是不同，这样品上的这一点在物镜1-2倍焦距之间，这些电子通过过物镜放大后重新汇聚，形成该点一个放大的实像，这个和凸透镜成像原理相同。这里边有个反差形成机制理论比较深就不讲，但可以这么想象，如果样品内部是绝对均匀的物质，没有晶界，没有**晶格结构，那么放大的图像也不会有任何反差，事实上这种物质不存在，所以才会有这种仪器存在的理由。 扫描电镜：电子束到达样品，激发样品中的二次电子，二次电子被探测器接收，通过信号处理并调制显示器上一个像素发光，由于电子束斑直径是纳米级别，而显示器的像素是100微米以上，这个100微米以上像素所发出的光，就代表样品上被电子束激发的区域所发出的光。实现样品上这个物点的放大。如果让电子束在样品的一定区域做光栅扫描，并且从几何排列上一一对应调制显示器的像素的亮度，便实现这个样品区域的放大成像。 3、对样品要求 (1)扫描电镜 SEM制样对样品的厚度没有特殊要求，可以采用切、磨、抛光或解理等方法将特定剖面呈现出来，从而转化为可以观察的表面。这样的表面如果直接观察，看到的只有表面加工损伤，一般要利用不同的化学溶液进行择优腐蚀，才能产生有利于观察的衬度。不过腐蚀会使样品失去原结构的部分真实情况，同时引入部分人为的干扰，对样品中厚度极小的薄层来说，造成的误差更大。 (2)透射电镜 由于TEM得到的显微图像的质量强烈依赖于样品的厚度，因此样品观测部位要非常的薄，例如存储器器件的TEM样品一般只能有10～100nm的厚度，这给TEM制样带来很大的难度。初学者在制样过程中用手工或者机械控制磨制的成品率不高，一旦过度削磨则使该样品报废。TEM制样的另一个问题是观测点的定位，一般的制样只能获得10mm量级的薄的观测范围，这在需要精确定位分析的时候，目标往往落在观测范围之外。目前比较理想的解决方法是通过聚焦离子束刻蚀(FIB)来进行精细加工。 扩展资料：透射电子显微镜的成像原理 可分为三种情况： （1）吸收像：当电子射到质量、密度大的样品时，主要的成相作用是散射作用。样品上质量厚度大的地方对电子的散射角大，通过的电子较少，像的亮度较暗。早期的透射电子显微镜都是基于这种原理。 （2）衍射像：电子束被样品衍射后，样品不同位置的衍射波振幅分布对应于样品中晶体各部分不同的衍射能力，当出现晶体**时，**部分的衍射能力与完整区域不同，从而使衍射波的振幅分布不均匀，反映出晶体**的分布。 （3）相位像：当样品薄至100Å以下时，电子可以穿过样品，波的振幅变化可以忽略，成像来自于相位的变化。 参考资料：百度百科-扫描电镜 百度百科-透射电镜