PVD和CVD分别是什么？

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PVD和CVD分别是什么？

PVD(Physical Vapor Deposition)---物理气相沉积：指利用物理过程实现物质转移，将**或分子由源转移到基材表面上的过程。 CVD是Chemical Vapor Deposition的简称，是指高温下的气相反应，例如，金属卤化物、有机金属、碳氢化合物等的热分解，氢还原或使它的混合气体在高温下发生化学反应以析出金属、**物、碳化物等无机材料的方法。 PVD技术出现于，制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化学稳定性等优点。最初在高速钢**领域的成功应用引起了世界各国制造业的高度重视，人们在开发高性能、高可靠性涂层设备的同时，也在硬质合金、陶瓷类**中进行了更加深入的涂层应用研究。 与CVD工艺相比，PVD工艺处理温度低，在600℃以下时对**材料的抗弯强度无影响；薄膜内部应力状态为压应力，更适于对硬质合金精密复杂**的涂层；PVD工艺对环境无不利影响，符合现代绿色制造的发展方向。 当前PVD涂层技术已普遍应用于硬质合金立铣刀、钻头、阶梯钻、油孔钻、铰刀、丝锥、可转位铣刀片、车刀片、异形**、焊接**等的涂层处理。 扩展资料 CVD例如，金属卤化物、有机金属、碳氢化合物等的热分解，氢还原或使它的混合气体在高温下发生化学反应以析出金属、**物、碳化物等无机材料的方法。 这种技术最初是作为涂层的手段而开发的，但不只应用于耐热物质的涂层，而且应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜等，是一个颇具特征的技术领域。 其技术特征在于： ⑴高熔点物质能够在低温下合成； ⑵析出物质的形态在单晶、多晶、晶须、粉末、薄膜等多种； ⑶不仅可以在基片上进行涂层，而且可以在粉体表面涂层，等。特别是在低温下可以合成高熔点物质，在节能方面做出了贡献，作为一种新技术是大有前途的。 参考资料来源：百度百科-PVD 参考资料来源：百度百科-CVD

PVD镀金是什么?

就是采用物理方法镀金.

什么是PVD